納米氧化鋅的分散難點：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中，容易出現抱團的現象，導致物料粒徑變大，分散效果不佳，產品改性不充分。

如果使用普通的分散設備，很難將納米氧化鋅分散均勻，會出現團聚的現象，團聚體難以打開，而如果采用SGN研發的分散設備，研磨分散機的話，先研磨后分散機，解決團聚問題，可達納米氧化鋅還原至納米級。

產品特性Product characteristics

超高速納米氧化鋅研磨分散機

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品，表現出許多特殊的性質，如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等，利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能，可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。

納米氧化鋅的分散難點：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中，容易出現抱團的現象，導致物料粒徑變大，分散效果不佳，產品改性不充分。

如果使用普通的分散設備，很難將納米氧化鋅分散均勻，會出現團聚的現象，團聚體難以打開，而如果采用SGN研發的分散設備，研磨分散機的話，先研磨后分散機，解決團聚問題，可達納米氧化鋅還原至納米級。

SGN研磨式分散機，是由膠體磨+分散機結合而成的設備，主要是為了解決納米級物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。

GMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

GMD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機的特點：